1200℃高真空迷你CVD設備該組CVD設備為小型化CVD系統(tǒng)，核心是一款迷你管式爐，采用電阻絲加熱，設備*高溫度可達1200℃。儀器還包含一臺三路浮子流量計，一臺分子泵組，分別構成了CVD的進氣和出氣部分。

特點

1. 爐管右側有數(shù)顯真空計，用以控制爐管內部的真空度和氣氛環(huán)境。

2. 系統(tǒng)采用PID智能控溫，控溫精度能達到±1℃。

3. 管式爐在操作上采用溫控表操作，可預設控溫曲線，

4. 一鍵啟停，便于使用，能夠簡化實驗操作進而節(jié)約試驗時間。

5. 高真空分子泵組可以有效提高本低真空度，提高反應產物的質量。 

技術參數(shù)：

1200℃迷你管式爐	供電電壓	AC220V,50Hz
	功率	2KW max
	加熱溫區(qū)	單溫區(qū)200mm
	恒溫區(qū)長	100mm
	加熱元件	耐熱合金絲
	熱電偶	K型
	工作溫度	≤1150℃
	升溫速率	建議≤10℃/min
	控溫精度	±1℃
	控溫方式	AI-PID 30段工藝曲線，帶有過熱和斷偶保護
	爐管材質	高純石英
	爐管尺寸	φ50mm O.D x 450mm L
	真空泵	機械泵  抽速1.1L/s
	極限真空	5Pa

三路浮子流量計	閥門類型	不銹鋼針閥
	氣路數(shù)量	三路
	承壓范圍	0.05~0.3MPa
	量程	160 SCCM (Air)
	混氣罐容積	750mL
	氣路材料	304不銹鋼
	管道接口	6.35mm卡套接頭