- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
一體式CVD系統(tǒng)設(shè)計(jì)緊湊，使用方便。特別是豐富的圖文界面，即使您是**操作，該系統(tǒng)也能順利引導(dǎo)您很快掌握該CVD系統(tǒng)的使用和操作，您根本無需專業(yè)學(xué)習(xí)，為您節(jié)省大量的科研時(shí)間，真正做到事倍功半！
產(chǎn)品特點(diǎn)：
1、豐富的圖文信息：全尺寸液晶圖文界面
2、系統(tǒng)高度集成：各個(gè)部分均由軟件協(xié)同進(jìn)行數(shù)據(jù)采集、交換、處理、輸出
3、可使實(shí)驗(yàn)步驟程序化、自動化
技術(shù)參數(shù)：
項(xiàng)目
明細(xì)
供電電壓
AC220V，50Hz
MAX功率
5KW
加熱溫區(qū)
220mm+440mm+220mm
工作溫度
1100℃ （1200℃＜1h）
控溫精度
±1℃
升溫速率
建議≤10℃/min
控溫方式
AI-PID 30段工藝曲線，可存儲多條
三溫區(qū)獨(dú)立控制，帶有過熱和斷偶保護(hù)
爐管材質(zhì)
高純石英
爐管尺寸
φ60mm O.D×1300mm L
氣體通道
三通道質(zhì)量流量計(jì)
氣體量程
A：100sccm B：300sccm C：500sccm
系統(tǒng)真空
5~10Pa（如需更高真空度可以選配其他的泵）
