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產品詳情
  • 產品名稱:桌面型有機源蒸發(fā)鍍膜儀

  • 產品型號:CY-EVZ254-I-H-SS
  • 產品廠商:成越科儀
  • 產品文檔:
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簡單介紹:
熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中,材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結合能,從而轉變?yōu)闅鈶B(tài)分子并從蒸發(fā)源表面逸出 。這些氣態(tài)粒子在輸運過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面,并在那里凝聚形核生長成固相薄膜
詳情介紹:

本產品為專為高真空設計的桌面型小型蒸發(fā)鍍膜儀,可提供*大100A的鍍膜電流,*大蒸發(fā)溫度可達1800℃,能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。真空腔體采用不不銹鋼制作,出廠經過除氣處理,配合分子泵組可達到5x10-5Pa極限真空,能夠滿足絕大部分材料蒸發(fā)所需的真空環(huán)境。真空腔體采用前開門開啟方式,便于取放樣,腔體上配置有帶擋板的適應觀察窗,用于觀察鍍膜過程,擋板則可以有效防止觀察窗被膜料污染.

蒸發(fā)鍍膜儀產品特點:

高純度薄膜:由于在高真空條件下進行,減少了氣體分子與蒸發(fā)材料的碰撞,從而能夠制備出高純度的薄膜。
**控制:蒸發(fā)鍍膜技術允許對薄膜的厚度、成分和結構進行**控制,這在許多高精度應用中至關重要。
適用多種材料:蒸發(fā)鍍膜技術可以用于多種材料,包括金屬、合金、氧化物、碳化物、氮化物以及有機材料等。
高沉積速率:特別是使用電子束蒸發(fā)時,由于高能量的電子束能夠快速加熱材料,可以實現高沉積速率。
均勻性:通過適當的工藝參數調整,可以在大面積基底上獲得均勻的薄膜。
低損傷:由于加熱主要集中在蒸發(fā)材料上,對基底的熱影響較小,適用于熱敏材料的薄膜沉積。

蒸發(fā)鍍膜儀技術對數:

參數名稱

參數說明

產品名稱

桌面型有機源蒸發(fā)鍍膜儀

產品型號

CY-EVZ254-I-H-SS

真空腔體

腔體材質

304不銹鋼焊接而成,表面做拋光處理

取放模式

前開門方式取放樣品和蒸鍍材料

觀察窗

直徑80mm真空窗口,配有磁力擋板,防止污染

樣品臺

樣品尺寸

直徑≦100mm的平面樣品均可

旋轉速度

分不旋轉和旋轉型(0-20RPM

加熱溫度

1800

蒸發(fā)系統(tǒng)

蒸發(fā)源

鎢絲籃或塢舟  1

樣品臺蒸發(fā)源距離

60-100mm 可調

鍍膜方式

熱蒸發(fā)鍍膜

真空系統(tǒng)

抽氣接口:KF25/40, 排氣接口: KF16

復合真空計,電阻規(guī)+電離規(guī)

前級泵

旋片泵  抽速: 1.1L/S

分子泵

抽速: 62L/S (大阪分子泵)

膜厚測量

通常配CYKY膜厚測量儀  (可選)

也可選配進口品牌,價格額外計算

供電電壓

AC220V,50Hz

整機功率

2KW

外形尺寸

750mm X 450mm X750mm 

包裝重量

70 KG

豫公網安備 41019702002438號

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