產(chǎn)品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
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高溫提拉涂膜機 CYTL-HT高溫提拉涂膜機能夠提供溫度高達1000℃的提拉涂膜環(huán)境，廣泛用于各種高溫提拉涂膜研究。例如，陶瓷類薄膜、晶...
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六工位提拉涂膜機 CYTL-OV6P六工位提拉涂膜機在相同外界條件下，對多個樣件在不同液相中進行提拉涂膜，主要用于納米材料研究、表面處理及...
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五工位提拉涂膜機 CYTL-OV5P五工位提拉涂膜機是我公司研發(fā)的一款用于同一樣件在不同液相中的多層涂膜，*多可達五層。本機廣泛用于納米、...
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毫米級恒溫提拉涂膜機 該毫米級恒溫提拉涂膜機是我公司研發(fā)的以毫米米為計量，專用于液相中提拉涂膜設(shè)計的儀器，該產(chǎn)品可通過垂直提拉在恒溫場液體中的...
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微米級恒溫提拉涂膜機 該微米級恒溫提拉涂膜機是我公司研發(fā)的以微米為計量，專用于液相中提拉涂膜設(shè)計的儀器，該產(chǎn)品可通過垂直提拉在恒溫場液體中的樣...
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熱蒸發(fā)與等離子鍍膜復(fù)合... 熱蒸發(fā)與等離子鍍膜復(fù)合型鍍膜儀適用于掃描電鏡樣品表面噴金、蒸金噴碳等操作，以及非導(dǎo)體材料試驗電極的制作等
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桌面型二合一鍍膜儀 本產(chǎn)品為二合一鍍膜儀，可用于電子產(chǎn)品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM（掃描電鏡）的樣品制備
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碳鎢蒸發(fā)等離子濺射復(fù)合... 碳鎢蒸發(fā)等離子濺射復(fù)合鍍膜儀可進行真空蒸碳、真空熱蒸發(fā)和等離子濺射，它也可以在高純氬氣的保護之下進行多種離子處理，碳鎢蒸...
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雙靶磁控及蒸發(fā)復(fù)合鍍膜... 雙靶磁控及蒸發(fā)復(fù)合鍍膜儀不銹鋼真空腔體、磁控濺射靶，蒸發(fā)鍍膜裝置，放置樣品的樣品臺，真空泵機組、真空測量規(guī)管，進氣系統(tǒng)和...
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等離子濺射和蒸發(fā)二合一... 等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或...
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等離子濺射蒸發(fā)二合一鍍... CY-EVS180G-LV二合一鍍膜儀，可用于電子產(chǎn)品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM（掃描電鏡...
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小型二合一鍍膜儀 等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或...
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小型高真空二合一鍍膜儀 等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或...
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等離子濺射和碳蒸發(fā)二合... 等離子濺射和碳蒸發(fā)二合一鍍膜儀是一款二合一緊湊型涂層裝置，配有雙級旋轉(zhuǎn)葉片真空泵，可將等離子濺射和蒸發(fā)集成到一臺小型機器...
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多功能鍍膜儀 多功能鍍膜儀是我公司獨立研發(fā)的新型產(chǎn)品，既可進行等離子濺射法鍍膜，也可進行蒸發(fā)鍍膜。這款多功能鍍膜儀可以與分子泵或者旋片...
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高真空多弧離子鍍膜儀 CY- MIOP500 為高真空多弧離子鍍膜儀，制備多元非晶合金,制備金屬化合物，如氧化物和氮化物薄膜（氧氣或氮氣氛圍）...
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實驗室多弧離子鍍鍍膜儀 實驗室多弧離子鍍鍍膜儀是利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時，將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積...
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多弧離子鍍膜儀 本設(shè)備為多弧離子鍍膜設(shè)備。多弧離子鍍是利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時，將蒸發(fā)...
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PLD脈沖激光濺射沉積... 該PLD脈沖激光濺射沉積設(shè)備系列設(shè)備主要用于生長光學(xué)晶體、鐵電體、鐵磁體、超導(dǎo)體和有機化合物薄膜材料，尤其適用于生長高熔...
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離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀 該電子束蒸發(fā)方式鍍膜儀，主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其...
