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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號(hào):CY-MSZ254-I-DC-SS
  • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
詳情介紹:

本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。

本套配置采用高真空不銹鋼腔體,腔體設(shè)置帶擋板的石英觀察窗,便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄;腔體設(shè)計(jì)真空性能優(yōu)良,造型小巧,十分適合實(shí)驗(yàn)室使用。同時(shí)設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái),可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì),操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手。

技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱

桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀

產(chǎn)品型號(hào)

CY-MSZ254-I-DC-SS

樣品臺(tái)

外形尺寸

φ100mm

加熱溫度

≦500℃

可調(diào)轉(zhuǎn)速

≦20rpm

磁控靶槍

配一支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm

真空腔體

腔體尺寸

φ254mm X 300mm

觀察窗口

前置式

腔體材料

304不銹鋼

開啟方式

上蓋拆卸式與前開啟式

真空系統(tǒng)

前級(jí)泵

低噪音雙極旋片泵

分子泵

低噪音大抽速渦輪分子泵

真空測量

復(fù)合真空計(jì),量程:10-5~105Pa

抽氣接口

KF16

抽氣接口

KF40

排氣接口

KF16

系統(tǒng)真空

1.0×10-4Pa

供電電源

AC 220V 50/60Hz

抽氣速率

分子泵抽速600L/s,前級(jí)抽速1.1L/s 

電源配置

電源數(shù)量

直流電源一套

輸出功率

直流電源300W

其他參數(shù)

供電電壓

AC220V,50Hz

整機(jī)功率

2kW

整機(jī)尺寸

550mm X 350mm X450mm

豫公網(wǎng)安備 41019702002438號(hào)

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