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- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
CY-VTC-3DC是專為非金屬薄膜鍍膜設(shè)計(jì)的三頭2"射頻等離子磁控濺射系統(tǒng)，主要用于多層氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性價(jià)比*高的鍍膜機(jī) . 直流磁控濺射選項(xiàng)可根據(jù)要求提供金屬薄膜沉積，實(shí)現(xiàn)三個(gè)直流、一個(gè)射頻/兩個(gè)直流和兩個(gè)射頻/一個(gè)直流濺射頭配置.
磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
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項(xiàng)目 |
明細(xì) |
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產(chǎn)品型號(hào) |
CY-MSZ325-III-DCDCDC-SS |
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供電電壓 |
AC220V，50Hz |
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整機(jī)功率 |
6KW |
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系統(tǒng)真空 |
≦5×10-4Pa |
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樣品臺(tái) |
外形尺寸 |
φ150mm |
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加熱溫度 |
≦600℃ |
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控溫精度 |
±1℃ |
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可調(diào)轉(zhuǎn)速 |
≦20rpm |
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磁控靶槍 |
靶材尺寸 |
直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm |
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冷卻模式 |
循環(huán)水冷 |
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水流大小 |
不小于10L/Min |
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靶槍數(shù)量 |
3 |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
直徑φ300mm，高度500mm |
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腔體材質(zhì) |
SUU304不銹鋼 |
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觀察窗口 |
直徑φ100mm |
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開(kāi)啟方式 |
頂開(kāi)式 |
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氣體控制 |
1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量，量程為:200SCCM |
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真空系統(tǒng) |
配分子泵系統(tǒng)1套，氣體抽速600L/S |
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膜厚測(cè)量 |
可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? |
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濺射電源 |
配直流電源,功率500W*3 |
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控制系統(tǒng) |
CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng) |
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設(shè)備尺寸 |
540 mm L x 540 mm W x 1000 mm H |
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設(shè)備重量 |
145kg |
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